【产品ID号】：757

【产品编号】：SJ-QT-10231

【中文名称】：四氟化碳标准气体

【英文名称】：Carbon tetrafluorocarbon standard gas

【气体浓度】：99.99%（可定制）

【产品规格】：2L、4L、8L（含瓶）

【平衡气体】：四氟化碳

【不确定度】：U=2%，k=2

【保质期限】：12个月

【保存条件】：储存于阴凉、通风的库房。库温不宜超过30℃。储区应备有泄漏应急处理设备。

【应用领域】：用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂，四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

【注意事项】：密闭操作。密闭操作，提供良好的自然通风条件。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员穿防寒服，戴防寒手套。防止气体泄漏到工作场所空气中。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。配备泄漏应急处理设备。