【产品ID号】：775

【产品编号】：SJ-QT-10249

【中文名称】：三氟化氮标准气体

【英文名称】：Nitrogen trifluoride standard gas

【气体浓度】：99.99%（可定制）

【产品规格】：2L、4L、8L（含瓶）

【平衡气体】：三氟化氮

【不确定度】：U=2%，k=2

【保质期限】：12个月

【保存条件】：储存于阴凉、通风的库房。库温不宜超过30℃。储区应备有泄漏应急处理设备。

【应用领域】：三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工

【注意事项】：密闭操作。密闭操作，提供良好的自然通风条件。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员穿防寒服，戴防寒手套。防止气体泄漏到工作场所空气中。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。配备泄漏应急处理设备。